질화알루미늄 세라믹 기판

빠르게 변화하는 전자 산업에서 방열과 신뢰성은 제품 성능을 결정하는 중요한 요소입니다. 질화알루미늄(AlN) 세라믹 기판탁월한 열전도도, 우수한 전기 절연성, 그리고 안정적인 기계적 특성을 갖춘 AlN 세라믹 기판은 고출력 및 고주파 전자 기기에 이상적인 선택이 되고 있습니다. 5G 통신, 신에너지 자동차, 항공우주, 산업용 레이저, 반도체 조명 등 어떤 분야에서든 AlN 세라믹 기판은 탁월한 솔루션을 제공하여 경쟁 환경에서 귀사의 제품이 두각을 나타낼 수 있도록 지원합니다. 주요 특징뛰어난 열전도도: AlN은 170~220 W/(m·K)의 열전도도를 가지고 있어 알루미나 세라믹을 훨씬 능가하며, 열을 효율적으로 방출하여 고전력 전자 부품의 안정적인 작동을 보장합니다. 뛰어난 전기 절연성: 높은 저항률과 낮은 유전 손실로 인해 고주파 회로에 적합하며, 신호 전송 손실을 줄이고 장치 성능을 향상시킵니다. 뛰어난 열팽창 매칭: 열팽창 계수는 실리콘이나 갈륨비소화와 같은 반도체 소재와 유사하여 열 응력을 효과적으로 줄이고 장치 수명을 연장합니다. 기계적 강도 및 안정성: 높은 강도, 경도, 화학적 부식에 대한 저항성으로 인해 혹독한 환경에서도 신뢰성과 내구성을 보장합니다. 정밀 가공 기능: 레이저 절단, 드릴링, 금속화와 같은 공정을 지원하여 복잡한 회로 설계 요구 사항을 충족하고 고집적 패키징을 구현합니다.