천공 알루미늄 질화물(AlN) 세라믹 기판은 고성능 AlN 세라믹 기판 위에 정밀 가공을 통해 관통홀 또는 블라인드 비아를 형성하는 특수 전자 패키징 소재입니다. 질화 알루미늄 세라믹을 기본 소재로 사용하고 정밀 드릴링 기술을 통해 맞춤형 홀 위치를 구현하여 열 성능, 절연 강도, 그리고 설치 호환성의 완벽한 균형을 이루며, 고전력 전자 모듈의 방열 문제를 해결하는 핵심 소재로 자리매김했습니다.
특징:
맞춤형 구멍 위치 설계: 다양한 설치 요구 사항에 맞게 조정
일반적인 비천공 기판과 달리 천공 AlN 세라믹 기판은 고객 회로 레이아웃과 구성 요소 설치 방법을 기반으로 고정밀 맞춤형 구멍 위치 지정 서비스를 제공합니다.
지원되는 구멍 유형: 둥근 구멍, 정사각형 구멍, 특수 모양의 구멍(슬롯 구멍, 계단형 구멍 등)
품목 번호 :
Perforated Aluminum Nitride Ceramic Substrate크기 :
customization제품 원산지 :
CHINA색상 :
Gray-white
데이터 시트
| 목 | 단위 | 값 | 테스트 표준 |
|
색상 |
회백색 |
시각 검사 |
|
|
체적 밀도 |
g/cm3 |
≥3.33 |
GB/T 25995-2010 |
|
열전도도 |
20℃ , W/(m ·케이) |
≥170 |
GB/T 5598 |
|
유전율 |
1MHz |
8~10 |
GB/T 5594.4 |
|
파괴적 힘 |
케이볼트/mm |
≥17 |
GB/T 5593 |
|
굽힘 저항 |
MPa |
≥380 |
GB/T 5593 |
|
뒤틀림 |
길이‰ |
≤2‰ |
|
|
표면 거칠기 |
μm |
0.3~0.6 |
GB/T 6062 |
|
물 흡수 |
% |
0 |
GB/T 3299-1996 |
|
체적 저항률 |
20℃,Ω .cm |
≥1013 |
GB/T 5594.5 |
|
열팽창률 |
10-6/℃ |
(20~300)℃,2~3 |
GB/T 5593 |
| 열팽창률 |
10-6/℃ |
(300~800)℃,2.5~3.5 |
GB/T 5593 |
우리의 장점
왜 당사의 천공 AlN 세라믹 기판을 선택해야 할까요?
첨단 제조 공정: 정밀 레이저 가공을 사용하여 매끄러운 구멍 벽을 보장합니다.
엄격한 품질 관리: 모든 기판은 원자재부터 완제품까지 엄격한 다단계 검사를 거쳐 제품의 일관성과 높은 신뢰성을 보장합니다.
전문적인 맞춤형 서비스: 당사의 숙련된 엔지니어링 팀은 설계 지원부터 신속한 프로토타입 제작 및 대량 생산까지 고객의 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞춰 포괄적인 지원을 제공합니다.
뛰어난 비용 효율성: 최고 수준의 성능을 제공하는 동시에, 프로세스 최적화와 대규모 생산을 통해 가장 경쟁력 있는 가격을 제공합니다.
미디어 연락처:
아모이 주시 테크놀로지 주식회사
전화: +86 592 7080230
이메일: miki_huang@chinajuci.com
웹사이트: www.jucialnglobal.com
ISO 인증서

