기판을 넘어선 기능성 반도체 구성 요소로서의 AlN

첨단 제조 시설에서는, AlN 세라믹은 더 이상 단순한 기판 재료가 아니라, 공정 장비 내부의 열 기능성 부품으로 점점 더 많이 사용되고 있습니다.

안 질화알루미늄 히터 반도체 제조에 사용되는 이 기술은 웨이퍼 레벨에서 정밀한 온도 균일성을 제공합니다. 높은 열전도율(170~230W/(m·K)) 덕분에 열이 웨이퍼 전체에 빠르게 전달되고, 내장된 저항층은 정밀한 영역별 가열을 가능하게 합니다. 이는 기존의 세라믹 히터로는 고출력 밀도에서 구현할 수 없는 조합입니다. AlN 세라믹 정전기 척(ESC)은 고출력 에칭 및 CVD 공정 중 웨이퍼를 정전기적으로 고정하면서 공정열을 효과적으로 방출합니다. AlN의 열전도율(알루미나의 약 5~10배)은 수율 손실을 유발하는 열 구배를 직접적으로 억제합니다. 또한, 맞춤형 질화알루미늄 도가니는 결정 성장 과정에서 불활성 고온 용기 역할을 하며, 기존 세라믹 도가니에서는 불가능한 용융물 오염을 방지합니다.

동일한 물질적 논리가 하류에도 적용됩니다. 질화알루미늄 세라믹 기판 IGBT/SiC 전력 모듈 및 레이저 서브마운트를 지원합니다. 질화알루미늄 세라믹 패키지 RF 및 전력 장치용 밀폐형 하우징을 지원합니다. 질화알루미늄 고급 포장재 1.6T 광학 엔진과 고밀도 TEC 스택 분야에 조용히 진출하고 있습니다.

이 모든 요소들은 하나의 상류 제약 조건, 즉 분말 품질로 수렴합니다. AlN 내 산소 함량이 높으면 질소 자리를 차지하고 알루미늄 공공이 형성되어 포논 산란 중심 역할을 하며 열전도율을 저하시킵니다. 품질이 우수한 분말은 이러한 제약 조건에 부합합니다. 고순도 질화알루미늄 분말 따라서 낮은 산소 농도, 좁은 입자 크기 분포, 그리고 재현 가능한 배치 간 일관성을 모두 갖춰야 합니다.

현재 반도체 등급 분말은 소수의 해외 업체에 집중되어 있는 상태입니다. 질화알루미늄 분말 공급업체국내 분말 제조업체들이 개발한 제품들은 이제 해외 제품과 성능 면에서 동등한 수준에 도달했습니다. 샤먼 주시(Xiamen Juci)를 예로 들면, 이 회사는 반도체 등급 질화알루미늄 분말 생산 ​​능력을 구축하여 안정적인 제품 품질과 국제적으로 앞선 수준의 주요 규격을 확보함으로써 하류 고객에게 신뢰할 수 있는 국내산 대체품(수입 대체)을 제공하고 있습니다.

샤먼 쥐치 고순도 제품을 제조합니다 AlN 분말 AlN 과립, 열전도성 충전재 및 AlN 세라믹을 제공합니다. 필요한 사항이 있으시면 언제든지 문의해 주세요.

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