반도체 산업에서의 AlN 응용 분야: 반도체 장비 부품

반도체 제조에서 실리콘 웨이퍼의 열 방출은 매우 중요합니다. 실리콘 웨이퍼 표면 전체에 걸쳐 균일한 온도를 유지하지 못하면 웨이퍼 제조 과정의 균일성과 정밀도가 저하됩니다.

사용의 이점 질화알루미늄 주요 재료로는 체적 저항률을 제어함으로써 넓은 온도 범위와 충분한 흡착력을 얻을 수 있는 정전기 척이 있습니다. (ESC) 질화알루미늄으로 제작된 이 소재는 매우 유연한 히터 설계를 통해 탁월한 온도 균일성을 제공합니다. 질화알루미늄 구성 요소(알엔 구성 요소) 이 제품들은 일체형 동시 소성 방식으로 제작되어 전극 열화로 인한 노화 현상을 제거하고 제품 품질 보증을 극대화합니다. 플라즈마 할로겐 진공 환경에서 내구성이 뛰어나며, 반도체 및 마이크로 전자 제조 분야의 가장 가혹한 공정 환경에서도 안정적인 흡착력과 정밀한 온도 제어를 제공합니다.

현재, 샤먼 쥐치 탄소열환원법을 사용하여 생산합니다. 질화알루미늄 분말샤먼 공장은 연간 700톤, 내몽골 공장은 연간 1200톤의 생산 능력을 갖추고 있습니다.

연락하다:

샤먼 쥐치 테크놀로지 주식회사

전화번호: +86 151 5177 8700

이메일: qinxianhui@chinajuci.com

웹사이트: www.jucialnglobal.com